清洗包括工業生產過程中對機械零件、電子元件、光學元件等的清洗，目的是去除微小的污垢顆粒。
超聲波清洗機根據清洗方法的不同，也可分為物理清洗和化學清洗：利用力學、聲學、光學、電學、熱學原理，依靠外部能量的作用，如機械摩擦、超聲波、負壓、高壓等。在罷工中。紫外線、蒸汽等去除物體表面污垢的方法稱為物理清洗；根據化學反應的作用，使用化學藥物或其他溶劑清除物體表面的污垢稱為化學清洗。如使用各種無機或有機酸去除物體表面的銹、垢，用氧化劑去除物體表面的色斑，用殺菌劑。消毒劑殺滅微生物、去除霉菌等。物理清洗和化學清洗各有優缺點，具有很好的互補性。在實際應用過程中，通常將兩者結合使用，以獲得更好的清洗效果。
根據清洗介質的不同，又可分為濕法清洗和干法清洗：一般在液體介質中清洗稱為濕法清洗，在氣體介質中清洗稱為干法清洗。傳統的清洗方式大多是濕法清洗，人們更容易理解干洗是吸塵器。但近年來，干洗業發展迅速。如激光清洗。紫外線清洗、等離子清洗、干冰清洗等，在高。精細工業技術領域發展迅速。
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通過式清洗機